Плазменный очиститель femto

Добро пожаловать отправлять электронную почту для получения информации о связанной аппаратуре:

shaobo@sfi-crf.com

Реактивно-ионная плазменная обработка струйного типа система CRF-APO-RP1020-D

Название

Реактивно-ионная плазменная обработка струйного типа система

Модель (Модель)

CRF-APO-RP1020-D

Питание

220В/переменный ток, 50/60 Гц

Мощность (Мощность)

1000Вт/25кГц

Высота обработки

5-15 мм

Ширина обработки

20-80 мм (опционально)

Внутренний режим управления

цифровой контроль

Внешний режим управления (Внешний режим управления)

RS485/RS232 цифровой коммуникационный порт,

Аналоговый контрольный порт

Рабочий газ (Газ)

Сжатый воздух (0,4 МПа)

Особенности продукта: Опционально доступно несколько типов сопел, используемых в различных ситуациях, для удовлетворения различных требований разных продуктов и условий обработки;

С цифровым портом связи RS485/232 и аналоговым портом управления, для удовлетворения разнообразных потребностей клиентов.

Устройство имеет небольшие габариты, легко транспортируется и перемещается, экономя место для клиентов;

Можно устанавливать встроенно в производственную линию оборудования клиентов, чтобы снизить затраты клиентов;

Долгий срок службы, низкие затраты на обслуживание и ремонт, что облегчает контроль затрат клиентов;

Область применения: главным образом используется для предварительной обработки печати, нанесения покрытий и дозирования на корпусах мобильных телефонов в электронной промышленности, поверхностной обработки экранов мобильных телефонов; очистки поверхностей аэрокосмических электрических разъемов в оборонной промышленности; предварительной обработки трафаретной печати и термопередачи в промышленности общего назначения и т.д.